直讀光譜儀較早起源于上世紀40年代，起初被應用于軍事裝備制造領域。第二次大戰(zhàn)后，隨著世界各國基礎設施的重建，經(jīng)濟開始復蘇，光譜儀也逐步被應用于民用領域。上世紀60年代，直讀光譜儀被引入到國內(nèi)，作為其一批應用者，鋼研納克的母體原鋼鐵研究總院（現(xiàn)為中國鋼研科技集團），見證了直讀光譜儀產(chǎn)業(yè)在我國的發(fā)展，這也為鋼研納克后期涉足該領域打下了堅實的基礎。2005年，鋼研納克推出一代直讀光譜儀——Labspark750，至今，鋼研納克的直讀光譜儀產(chǎn)品已歷經(jīng)了三次較大規(guī)模的升級迭代，產(chǎn)品性能持續(xù)得到改進。本次鋼研納克在BCEI1A2019上推出的SparkCCD7000直讀光譜儀在檢測靈敏度、光學系統(tǒng)、智控、痕量元素識別等方面都有大幅提高，據(jù)了解，此儀器在發(fā)布會前已經(jīng)過多次試驗比對，其各項數(shù)據(jù)均已處于國際1先進水平。

直讀光譜儀保養(yǎng)要素

激發(fā)臺

在激發(fā)系統(tǒng)中其基本維護的部位為激發(fā)臺內(nèi)部，激發(fā)臺內(nèi)部是否清潔、電極極距是否穩(wěn)定，激發(fā)臺發(fā)光弧焰相對于光學系統(tǒng)的高度等，均會影響我們的數(shù)據(jù)結果。

1、拔出廢氣管，用吸塵器清理激發(fā)腔中的灰塵；

2、使用脫脂棉沾純酒精擦拭護套；

3、清理完成，用極距規(guī)重新測量一次分析間距；

4、再用氬氣沖洗整個回路2~3分鐘，以沖掉進入火花臺的空氣。

直讀光譜儀在檢測分析過程中由于各種因素的影響產(chǎn)生誤差是在所難免的，比如標準樣品和分析樣品成分不均勻、組織狀況不一致、光譜性能不穩(wěn)定、樣品表面處理不好、氬氣純度不夠等一個因素出現(xiàn)問題，就會影響到光電光譜分析誤差。了解其產(chǎn)生誤差的原因，采取有效的措施進行消除或避免誤差，提高直讀光譜儀檢測結果的準確性，是一項十分重要的研究課題。

光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求

直讀光譜分析時，一般都采用內(nèi)標法。因內(nèi)標法進行分析時常采用多條分析線和一條內(nèi)標線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標元素。組成的線對要求均稱，就是當激發(fā)光源有波動時，兩條線對的譜線強度雖有變化，但強度比或相對強度能保持不變。

如R表示強度比即        

R=I1/I0

I1為分析線的強度，Io為內(nèi)標線強度，表明I1和Io同時變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關系。

在光電直讀光譜分析時，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標通道有困難，因此采用一個內(nèi)標線。但有人認為再要提高光電光譜分析的準確度還得采用不同的內(nèi)標線，這還有待于光電轉換元件的小型化來解決。

光電法時，有時還用內(nèi)標線來控制曝光量，稱為自動曝光，也就是樣品在曝光時，分析線和內(nèi)標分別向各自積分電容充電，當內(nèi)標線的積分電容器充電達到某一預定的電壓時，自動截止曝光。此時分析線的積分電容器充電達到的電壓即代表分析線的強度I，并且亦即代表分析線的強度比R(因為R=I1/Io，而此時Io保持常數(shù))這個強度I或強度比R就由測光讀數(shù)所表示。

現(xiàn)在一般采用計時曝光法較為普遍。