Parylene涂層是在室溫下在元件上自發(fā)形成的

Parylene涂層是在室溫下在元件上自發(fā)形成的，不需要經(jīng)升溫固化過程，不需要對基材施加室溫以上的溫度和更多的時間來讓膜生長。由于這種聚合物是自發(fā)的不需要催化劑。 促進聚合的催化劑通常是離子或離子化合物，固化后它們會多少殘留一些在涂層里。這些殘留的物質(zhì)能參與電荷的遷移，在一定程度上影響涂層的電性能。又由于Parylene涂層是在室溫下形成的，因此可以防止主要因室溫和固化溫度變化不同由熱膨脹引起的應力問題。

派瑞林parylene涂層在領(lǐng)域的特性

派瑞林涂層，不僅電性能，防護性能好，而且生物相溶性也好，它已通過美國FDA論證，滿足美國藥典生物材料VI類標準，被列為是一種可以在體內(nèi)長期植入使用的生物材料。 派瑞林parylene涂層在領(lǐng)域的特性：可以抗酸堿腐蝕，可以抗溶解（在普通的溶劑中不會被溶解），抗凍性能強（低至-200℃），具有的屏障效果（低氣體滲透性），可靠性強，具有極高的絕緣強度，采用Parylene進行涂層，可得到均勻一致，透明且極薄的膜層，能涂敷到各種形狀的表面，包括尖銳的棱邊、裂縫，經(jīng)濟清潔、工序簡單、速度快、批量處理能力強等

       Parylene的熱分解起源于苯環(huán)兩側(cè)的C-C鍵，通過將二上的H原子替換為F原子，就得到HT型Parylene，目前還未商品化，但HT型所擁有的大于420的使用溫度和的介電常數(shù)，使其在航空及半導體領(lǐng)域具有廣泛的應用前景尖銳的棱邊，裂縫里和內(nèi)表面。

      Parylene采用了一種獨特的化學氣相沉積工藝（CVD）。CVD工藝早應用于半導體工業(yè)的外延生長，整個過程是氣態(tài)反應，又在真空條件下進行，因而可以獲得非常均勻的涂層，達到其它方法難以實現(xiàn)的同形性。

        Parylene適合用于鐵氧體材料(磁環(huán)、磁芯)等電子組件的鍍膜，鍍膜后的電子組件其涂膜附著力強、耐磨性好、硬度高、抗高電壓絕緣性強，漆膜外觀細膩均勻、柔滑、觸感好。耐漆包線的繞線性強，漆膜不裂傷。同時可以增加鐵氧體等磁性材料的介電性及耐高壓性能，可以解決普通環(huán)氧樹脂噴涂處理后不耐酸、磨等方面的缺陷。Parylene 涂層能在磁性材料表面形成均勻一同的絕 緣防護涂層！

        鑄造部件：經(jīng)Parylene處理的表面不會有微粒產(chǎn)生，同時可以增強工作的可靠性，并且可防止污染。