而采用噴淋的方式卻可以 達到通過大氣中氧的作用將一價銅轉(zhuǎn)換成二價銅, 并去除一價銅, 這就是需要將空氣通入 蝕刻箱的一個功能性的原因。 但是如果空氣太多﹐又會加速溶液中的氨的損失而使 PH 值下 降﹐使蝕刻速率降低。 氨在溶液中的變化量也是需要加以控制的, 有一些用戶采用將純氨 通入蝕刻儲液槽的做法, 但這樣做必須加一套 PH 計控制系統(tǒng), 當自動監(jiān)測的 PH 結(jié)果低于默 認值時﹐便會自動進行溶液添加。 在相關(guān)的化學蝕刻（亦稱之為光化學蝕刻或 PCH）領(lǐng)域中﹐研究工作已經(jīng)開始﹐并達至 蝕刻機結(jié)構(gòu)設(shè)計的階段。通常整個導向標識工程由四個階段完成：概念設(shè)計－條件設(shè)計－方案評議修改－定案實施。

蝕刻設(shè)備的維護

維護蝕刻設(shè)備的關(guān)鍵因素就是要保證噴嘴的高清潔度及無阻塞物, 使噴嘴能暢順地 噴射。 阻塞物或結(jié)渣會使噴射時產(chǎn)生壓力作用, 沖擊板面。 而噴嘴不清潔﹐則會造成蝕刻 不均勻而使整塊電路板報廢。明顯地﹐設(shè)備的維護就是更換破損件和磨損件﹐因噴嘴同樣存在著磨損的問題, 所以 更換時應(yīng)包括噴嘴。蝕刻是一種采用采用化學手段侵蝕材料，制作標牌的方法，是傳統(tǒng)標牌制作方法之一。 此外﹐更為關(guān)鍵的問題是要保持蝕刻機沒有結(jié)渣﹐因很多時結(jié)渣堆積 過多會對蝕刻液的化學平衡產(chǎn)生影響。

有時 較劇烈的振顫都有可能損傷銅箔。 5. 減少污染的問題 銅對水的污染是印制電路生產(chǎn)中普遍存在的問題﹐而氨堿蝕刻液的使用更加重了這 個問題。 因為銅與氨絡(luò)合﹐不容易用離子交換法或堿沈淀法除去。 所以﹐采用無銅的添加 液來漂洗板子(第二次噴淋操作的方法)﹐可大大地減少銅的排出量。 然后﹐再用空氣刀在 水漂洗之前將板面上多余的溶液去除﹐從而減輕了水對銅的蝕刻的鹽類的漂洗負擔。 在自動蝕刻系統(tǒng)中, 銅濃度是以比重來控制的。標牌蝕刻法適用于批量大、品種多、大平面的薄型金屬材料加工和金屬制品表面工藝裝飾（半腐蝕），亞克力同時也適用于單件小批打樣。 在印制板的蝕刻過程中﹐隨著銅不 斷地被溶解﹐當溶解的比重不斷升高至超過一定的數(shù)值時﹐系統(tǒng)便會自動補加氯化銨和氨 的水溶液﹐使比重調(diào)整回合適的范圍。