ZF500有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)

廣泛應(yīng)用于高校材料、物理、化學(xué)、電子、能源等相關(guān)學(xué)科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等，半導(dǎo)體、有機(jī)EL、OLED顯示研究與開(kāi)發(fā)領(lǐng)域。

系統(tǒng)組成:

主要由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺(tái)、 真空抽氣及測(cè)量、膜厚測(cè)試 、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度4×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時(shí)間：40分鐘可達(dá)6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm

樣品臺(tái)：尺寸為4英寸4平面樣品；

有機(jī)束源爐：數(shù)量：4支，標(biāo)準(zhǔn)型600度控溫；

樣品架：安裝加熱爐?；臏囟葟氖覝刂?00℃（硅片上表面的溫度，只需標(biāo)定一次即可）

4套擋板系統(tǒng)：動(dòng)密封手動(dòng)控制；

樣品擋板（１套），磁力撥叉，

膜厚控制儀：膜厚測(cè)量范圍0-999999? 

以上就是關(guān)于電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品的相關(guān)內(nèi)容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話或關(guān)注沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司！