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發(fā)布時(shí)間:2020-08-25 13:57  







簡(jiǎn)單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下,能夠用光的干與理論來(lái)研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時(shí),在它的兩個(gè)表面上發(fā)作屢次反射和折射,反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出,反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確認(rèn)(見(jiàn)光在分界面上的折射和反射)。


全電介質(zhì)反射膜是建立在多光束干涉基礎(chǔ)上的。與增透膜相反,在光學(xué)表面上鍍一層折射率高于基體材料的鍍膜,就可以增加光學(xué)表面的反射率。簡(jiǎn)單的多層反射膜是由高、低折射率的二種材料交替蒸鍍而成的,每層膜的光學(xué)厚度為某一波長(zhǎng)的四分之一。在這種條件下,參加疊加的各界面上的反射光矢量,振動(dòng)方向相同。合成振幅隨著薄膜層數(shù)的增加而增加。

原則上說(shuō),全電介質(zhì)反射膜的反射率可以無(wú)限接近于1,但是薄膜的散射、吸收損耗限制了薄膜反射率的提高。迄今為止,激光反射膜的反射率雖然已超過(guò)99.9%,但有一些工作還要求它的反射率繼續(xù)提高。應(yīng)用于強(qiáng)激光系統(tǒng)的反射膜,則更強(qiáng)調(diào)它的抗激光強(qiáng)度,圍繞提高這類(lèi)薄膜的抗激光強(qiáng)度所開(kāi)展的工作,使這類(lèi)薄膜的研究更加深入。




真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面,它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),利用物理或化學(xué)方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。



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