佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實(shí)，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

從鍍膜的原理及特點(diǎn)看，真空蒸鍍工件不帶電，真空條件下金屬加熱蒸發(fā)沉積到工件表面，沉積粒子的能量與蒸發(fā)時(shí)的溫度對(duì)應(yīng)。很多標(biāo)榜無機(jī)類鍍膜的產(chǎn)品，其實(shí)本身并不是真正的無機(jī)物，夸大其詞的宣傳往往給消費(fèi)者造成信息誤導(dǎo)。濺射的工件為陽極，靶為陰極，利用原子的濺射作用把靶材原子擊出而沉積在工件表面上，沉積原子的能量由被濺射原子的能量分布決定。離子鍍的工件為陰極，蒸發(fā)源為陽極，進(jìn)入輝光放電空間的金屬原子離子化后奔向工件，并在工件表面沉積成膜，沉積過程中離子對(duì)基片表面、膜層與基片的界面以及膜層本身都發(fā)生轟擊作用，粒子的能量決定于陰極上所加的電壓。

物理l氣相沉積（真空鍍膜）基本方法 ：

從膜層特點(diǎn)看，真空蒸鍍低溫時(shí)密度小但表面光滑、氣孔低溫時(shí)多、附著性不太好、內(nèi)應(yīng)力為拉應(yīng)力繞射性差；濺射密度大、氣孔少但混入濺射氣體較多、附著性較好、內(nèi)應(yīng)力為壓應(yīng)力、繞射性差；離子鍍密度大 ，無氣孔但膜層缺陷較多，附著性很好，內(nèi)應(yīng)力視工藝 條件而定，繞射性較好。鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響：靶基距：靶基距是影響成膜速率的重要因素之一，隨著靶基距增加，被濺射材料射向基片時(shí)與氣體分子碰撞的次數(shù)增多，同時(shí)等離子體密度也減弱，動(dòng)能減少，沉積速率降低，但膜層外觀較好。

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響：

靶基距：靶基距是影響成膜速率的重要因素之一，隨著靶基距增加，被濺射材料射向基片時(shí)與氣體分子碰撞的次數(shù)增多，同時(shí)等離子體密度也減弱，動(dòng)能減少，沉積速率降低，但膜層外觀較好。靶基距太小，沉積太快，工件溫升大，膜層外觀差。

有機(jī)鍍膜與無機(jī)鍍膜的根本區(qū)別

有機(jī)物王要指含有碳、氫兩種元素的化合物，容易氧化、可燃燒、會(huì)降解。利用紅外線光譜吸收分析法，可以了解各種鍍膜原料的內(nèi)部化學(xué)成分，這是區(qū)別真假無機(jī)質(zhì)鍍膜產(chǎn)品的重要科學(xué)依據(jù)。有機(jī)物的熔點(diǎn)較低，一般不超過400℃，熱穩(wěn)定性差，容易受熱分解。比如含有j基（Me化學(xué)式-CH3)的化合物，因成分中含有碳?xì)浠鶊F(tuán)，都屬于有機(jī)類物質(zhì)。無機(jī)物指不含碳元素的純凈物，其特點(diǎn)：1。一般不含碳元素2。分子較小3。通常不可燃燒。如二氧化硅（SiO2），中文別名r石英砂，屬于無機(jī)物。二氧化硅Sio2的熔點(diǎn)、沸點(diǎn)較高（熔點(diǎn)1723℃，沸點(diǎn)2230℃）。