鍍膜技術(shù)在信息存儲(chǔ)領(lǐng)域中的應(yīng)用

薄膜材料作為信息記錄于存儲(chǔ)介質(zhì)，有其得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)：由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗；磁化反轉(zhuǎn)極為迅速；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。

物理氣相沉積（PVD）是一種真空鍍膜工藝，許多人知道常用于提高切削刀具的性能。但北京丹普表面技術(shù)有限公司的真空鍍膜機(jī)設(shè)備可以提供陰極電弧PVD涂層服務(wù)可提供更硬，更潤(rùn)滑的產(chǎn)品，與未涂層工具相比，可將工具壽命提高10倍。耐磨表面。此外，制造商越來越多地使用PVD涂層來區(qū)分其設(shè)備的外觀與類似產(chǎn)品和/或增強(qiáng)其設(shè)備的性能，因?yàn)橛操|(zhì)惰性涂層具有生物相容性，不會(huì)與骨骼發(fā)生反應(yīng)，組織或體液。 此外，制造商越來越多地使用PVD涂層來區(qū)分其設(shè)備的外觀與類似產(chǎn)品和/或增強(qiáng)其設(shè)備的性能，因?yàn)橛操|(zhì)惰性涂層具有生物相容性，不會(huì)與骨骼發(fā)生反應(yīng)，組織或體液。涂覆PVD涂層的的實(shí)例包括，鉆頭和針頭，以及用于各種裝置組件以及應(yīng)用的“磨損”部件。

未來發(fā)展策略

1、目前實(shí)體經(jīng)濟(jì)走勢(shì)整體疲弱，復(fù)蘇充滿不確定性，經(jīng)濟(jì)處于繼續(xù)探底過程，真空鍍膜設(shè)備制造企業(yè)應(yīng)著力進(jìn)行產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)優(yōu)化升級(jí)，重質(zhì)量、重服務(wù)明確市場(chǎng)定位，大力研發(fā)擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的新產(chǎn)品新工藝，提高產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)水平。

2、依托信息化發(fā)展趨勢(shì)，堅(jiān)持“以信息化帶動(dòng)工業(yè)化，以工業(yè)化促進(jìn)信息化”，走出一條科技含量高、經(jīng)濟(jì)效益好、資源消耗低、環(huán)境污染少、人力資源優(yōu)勢(shì)得到充分發(fā)揮的新型工業(yè)化路子。

3、依托政府支持，大力加強(qiáng)與擁有行業(yè)先進(jìn)技術(shù)和工藝水平的科研院所、大型企業(yè)、高校合作，使得新品能迅速推向市場(chǎng)。

真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備擁有十分廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域和發(fā)展前景。未來真空鍍膜設(shè)備行業(yè)等制造業(yè)將以信息化融合為，依靠技術(shù)進(jìn)步，更加注重技術(shù)能力積累，制造偏向服務(wù)型，向世界真空鍍膜設(shè)備行業(yè)等制造業(yè)價(jià)值鏈挺進(jìn)。

鍍膜技術(shù)在集成電路制造中的應(yīng)用 晶體管路中的保護(hù)層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多晶硅、鋁、銅及其合金）等多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)。可見氣相沉積術(shù)制備集成電路的核心技術(shù)之一。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

真空鍍膜機(jī)-操作步驟

一、電控柜的操作;

開維持泵、真空計(jì)電源，真空計(jì)檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。 開機(jī)械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動(dòng)，真空計(jì)開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。

觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后，關(guān)予抽，開前機(jī)和高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達(dá)一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開電子槍電源。