微弧氧化

       微弧氧化又稱等離子體電解氧化、微等離子體氧化等，是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時(shí)高溫高壓作用，原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。在微弧氧化過程中，化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、等離子體氧化同時(shí)存在,因此陶瓷層的形成過程非常復(fù)雜，至今還沒有一個(gè)合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。微弧氧化技術(shù)有哪些用途微弧氧化技術(shù)用于常規(guī)陽極氧化不能處理的特殊鋁基合金材料的表面強(qiáng)化處理。

微弧氧化技術(shù)受哪些因素影響

1、時(shí)間對(duì)微弧氧化的影響微弧氧化時(shí)間一般控制在10～60min。氧化時(shí)間越長，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。

2、陰極材料陰極材料可選用不銹鋼，碳鋼，鎳等，可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。

3、后處理對(duì)微弧氧化的影響微弧氧化過后，工件可不經(jīng)過任何處理直接使用，也可進(jìn)行封閉，電泳，拋光等后續(xù)處理。

微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)

      微弧氧化又稱微等粒子氧化或陽極火花沉積，是一種在Al、Mg、Ti等有色金屬表面原位生長陶瓷膜的表面處理新技術(shù)，技術(shù)上具有先進(jìn)性。該技術(shù)能夠極大地改善鋁、鎂、鈦合金的耐磨損、耐腐蝕、耐熱沖擊及絕緣性能。在鋁、鎂合金等輕金屬表面制備具有高色彩、多用途的陶瓷釉膜層。所得復(fù)合膜層的性能明顯優(yōu)于單一微弧氧化或傳統(tǒng)涂裝膜層，其優(yōu)異的表面防護(hù)效果滿足了鋁鎂合金零件于各種環(huán)境條件下的表面性能要求。同時(shí)色彩更鮮艷，滿足商業(yè)消費(fèi)者的外在需求。微弧氧化手電解質(zhì)溶液及其組分的影響微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技術(shù)關(guān)鍵。

       微弧氧化膜表面有很多微孔，多為盲孔。該組織形貌，非常有利于后續(xù)涂裝，它能使有機(jī)涂層深入氧化膜的微孔中形成“拋錨效應(yīng)”，大大提高了有機(jī)涂層的結(jié)合力。微弧氧化處理工藝簡單，流程短。不需要對(duì)工件進(jìn)行復(fù)雜的前處理，氧化過程無污染。電解液成分以食品添加劑為主，無毒無害且長效，生產(chǎn)過程中無需更換。微弧氧化又稱微等粒子氧化或陽極火花沉積，是一種在Al、Mg、Ti等有色金屬表面原位生長陶瓷膜的表面處理新技術(shù)，技術(shù)上具有先進(jìn)性。清洗廢水可作為電解液補(bǔ)加水，處理過程基本無廢水排放。