公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

在用玻璃標(biāo)定板標(biāo)定時(shí)候都有遇到過(guò)標(biāo)定板反光問(wèn)題，有時(shí)候不能用背光源，只能用前置光源，光源投射下來(lái)，玻璃本身就是反光材料，燈光一亮反光嚴(yán)重，甚至導(dǎo)致無(wú)法標(biāo)定板。

光刻掩膜版材質(zhì)可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時(shí)所常用的光刻掩膜版。

一種具有保護(hù)環(huán)的光刻板，包括光刻板本體和設(shè)置在光刻板本體外圈的保護(hù)環(huán)，所述保護(hù)環(huán)緊密圍在光刻板本體的外部邊緣處并將內(nèi)部的光刻板本體圍起，所述保護(hù)環(huán)上具有圓型開(kāi)孔、直角型開(kāi)孔與直線型開(kāi)孔，所述直角型開(kāi)孔設(shè)置在光刻板本體的轉(zhuǎn)角處，所述直線型開(kāi)孔設(shè)置在光刻板本體的水平邊緣與豎直邊緣，所述圓型開(kāi)孔設(shè)置在直角型開(kāi)孔與直線型開(kāi)孔的連接處。用選定的圖像、圖形或物體，對(duì)處理的圖像（全部或局部）進(jìn)行遮擋，來(lái)控制圖像處理的區(qū)域或處理過(guò)程。

制版（platemaking）是將原稿成印版的統(tǒng)稱。PS版的顯影時(shí)間主要由PS版的種類、曝光時(shí)間及顯影液的濃度、顯影溫度等條件來(lái)確定。有將鉛活字排成活字版，以及用活字版打成紙型現(xiàn)澆鑄成凸版和將圖像經(jīng)照像或電子分色獲得底片，用底片曬制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。在制版中影響印版質(zhì)量的因素，主要有顯影液濃度、顯影溫度和顯影時(shí)間以及顯影液的循環(huán)攪拌情況、顯影液的疲勞程度等。

PS版的顯影時(shí)間主要由PS版的種類、曝光時(shí)間及顯影液的濃度、顯影溫度等條件來(lái)確定。當(dāng)上述條件確定制版機(jī)后，PS版的顯影程度與顯影時(shí)間成正比關(guān)系，即顯影時(shí)間越長(zhǎng)，顯影越徹底。但顯影時(shí)間過(guò)長(zhǎng)會(huì)產(chǎn)生網(wǎng)點(diǎn)縮小等現(xiàn)象。

烤版如需要烤版，烤版時(shí)要注意：①首先要選好烤版膠，烤版膠不能太臟。如用固體桃膠配制，一定要用熱水溶膠，膠要徹底溶開(kāi)、過(guò)濾再用。隨著沖版量的不斷增加和空氣中的CO2不斷溶入，顯影液中的OH-濃度會(huì)下降，pH值將越來(lái)越低，顯影時(shí)間應(yīng)慢慢變長(zhǎng)，至后在正常曝光條件下PS版無(wú)法顯影，這就是顯影液疲勞的現(xiàn)象。②把適量的烤版膠涂在版面上，用海綿將版面涂擦均勻。③烤版膠不能用干布擦拭。④版材在烘版箱中烘烤，圖像區(qū)域會(huì)均勻變色。不同的PS版，烘烤時(shí)間、溫度及終顏色會(huì)不一致，所以需通過(guò)試驗(yàn)確定烤版條件。

烤版時(shí)還要注意：①烤版箱內(nèi)的紅外燈管一定要橫向排列，如縱向排列，往往導(dǎo)致印版瓦楞狀變形而影響使用。②烤版膠濃度要合適，如烤版膠太稠，烤版效果和上墨效果也不會(huì)令人滿意；如烤版膠太稀，烤出的版容易上臟。倍縮光掩模（Reticle）：當(dāng)鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱為倍縮光掩模，通常圖型要放大4倍、5倍或10倍。③烤版溫度不能過(guò)高，溫度過(guò)高也會(huì)導(dǎo)致鋁版基韌化和發(fā)軟，樹(shù)脂層焦化，影響耐印力。