中頻磁控濺射鍍膜設備有哪些特點

中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現(xiàn)象；減弱或消除靶的異常弧光放電。因此，提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性，同時，提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍。

新研發(fā)平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結(jié)構(gòu)和布局。該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

真空磁控濺射鍍膜機的電氣控制系統(tǒng)介紹

真空磁控濺射鍍膜機的電氣控制系統(tǒng)按位置分為控制柜、變壓器組和操作臺三個主要部分。設備所有功能的控制元器件包括可編程PLC、變頻器、調(diào)壓模塊等都裝在控制柜里，控制柜的正面安裝有電阻、電離復合真空計，安裝有增壓泵、擴散泵的加熱電流表以及三相電源的指示燈、報警指示燈、緊急停止開關。

變壓器組安裝在真空罐的下面，其輸出端正極直接與對應的蒸發(fā)電極棒連接，輸出端負極并接后再與蒸發(fā)負極連接。

操作臺安放在真空罐的前方、觀察窗的下方，觸摸屏、各部件的操作控制按鈕、旋鈕或開關都設在操作臺的面板上。

觸摸屏位于操作面板的左上部，卷繞系統(tǒng)參數(shù)包括收放卷的張力、卷徑、機器的運行速度等的設置和數(shù)據(jù)顯示、真空系統(tǒng)的運行指示都在觸摸屏中進行。

操作面板的右上部是蒸發(fā)源加熱功率調(diào)節(jié)鈕和電流表，可以調(diào)節(jié)和顯示每組蒸發(fā)源的功率。

操作面板的下部是功能控制按鈕或開關，包括控制電源總開關、卷繞車進退、擺臂進退、彎輥正反轉(zhuǎn)、送絲開關及速度快慢、蓋板開關、系統(tǒng)運行的控制模式選擇等。

PVD能鍍出哪些顏色呢？

我們生活離不開炫彩靚麗的工具和物件，然后這些看起來視覺效果美觀的工具和物件，都是通過鍍了一層薄薄的膜，才能實現(xiàn)這樣的效果，大到飛機、航母，小到家庭餐具、手表，可以說鍍膜工藝，無處不在。隨著人們的生活水平不斷的提高，對鍍膜工藝要求也就越來越高。之前鍍膜是通過傳統(tǒng)的水鍍方式來實現(xiàn)的，現(xiàn)在PVD真空磁控濺射鍍膜機鍍膜工藝，被更多的人認可和追隨。有很多人很疑惑，為什么PVD真空鍍膜被那么多人認可，它到底有什么優(yōu)勢？

據(jù)了解PVD鍍膜機鍍膜工藝目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。在鍍膜的過程中通過調(diào)控相關參數(shù)，可以控制鍍出的顏色;鍍膜結(jié)束后可以用相關的儀器對顏色值進行測量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。

裝飾性真空鍍膜設備涂層的作用和要求

裝飾性真空鍍膜設備涂層的作用和要求 裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種。為了滿足產(chǎn)品的不同技術要求，可施涂底涂層和面涂層，或在面涂層上再施涂彩色涂層、保護涂層等。這些涂層的主要作用是： 提高膜層的結(jié)合力。采用相同的鍍膜方法，在塑料基體上施涂底涂層再真空鍍膜，可提高膜層的結(jié)合力。 降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度。一般鍍件表面都存在微觀不平整度，不一定厚度涂料的整平性，可以填補鍍件表面的缺陷，使鍍件表面達鏡面平整度。 能保護金屬膜層。真空鍍膜層一般只有100nm，膜層的耐磨性和抗變色能力較差，施涂面涂層后，鍍膜層與外界不直接接觸，對鍍膜層能起保護作用。