光刻膠國內的研發(fā)起步較晚

光刻膠的研發(fā)，關鍵在于其成分復雜、工藝技術難以掌握。項目共申請發(fā)明專利15項（包括國際專利5項），截止到目前，共獲得授權專利10項（包括國際專利授權3項）。光刻膠主要成分有高分子樹脂、色漿、單體、感光引發(fā)劑、溶劑以及添加劑，開發(fā)所涉及的技術難題眾多，需從低聚物結構設計和篩選、合成工藝的確定和優(yōu)化、活性單體的篩選和控制、色漿細度控制和穩(wěn)定、產品配方設計和優(yōu)化、產品生產工藝優(yōu)化和穩(wěn)定、終使用條件匹配和寬容度調整等方面進行調整。因此，要自主研發(fā)生產，技術難度非常之高。

在光刻膠研發(fā)上，我國起步晚，2000年后才開始重視。近幾年，雖說有了快速發(fā)展，但整體還處于起步階段。事實上，工藝技術水平與國外企業(yè)有著很大的差距，尤其是材料及設備都仍依賴進口。

NR9-3000PY

四、對準（Alignment）

光刻對準技術是曝光前一個重要步驟作為光刻的三大核心技術之一，一般要求對準精度為細線寬尺寸的 1/7---1/10。隨著光刻分辨力的提高 ，對準精度要求也越來越高 ，例如針對 45am線寬尺寸 ，對準精度要求在5am 左右。

受光刻分辨力提高的推動 ，對準技術也經歷 迅速而多樣的發(fā)展 。A美國光刻膠，Futurrex正膠PR1-2000A,去膠液RR4，和顯影液RD6可以解決以上問題。從對準原理上及標記結 構分類 ，對準技術從早期的投影光刻中的幾何成像對準方式 ，包括視頻圖像對準、雙目顯微鏡對準等，一直到后來的波帶片對準方式 、干涉強度對準 、激光外差干涉以及莫爾條紋對準方式 。從對準信號上分 ，主要包括標記的顯微圖像對準 、基于光強信息的對準和基于相位信息對準。

發(fā)展

Futurrex在開發(fā)產品方面已經有很長的歷史

我們的客戶一直在同我們共同合作，創(chuàng)造出了很多強勢的專利產品。

在晶體管(transistor) ，封裝，微機電。顯示器，OLEDs，波導(waveguides) ，VCSELS，

成像，電鍍，納米碳管，微流體，芯片倒裝等方面。我們都已經取得一系列的技術突破。

目前Futurrex有數百個專利技術在美國專利商標局備案。

Futurrex 產品目錄

正性光刻膠

增強粘附性正性光刻膠

負性光刻膠

增強粘附性負性光刻膠

先進工藝負性光刻膠

用于lift-off工藝的負性光刻膠

非光刻涂層

平坦化，保護、粘接涂層

氧化硅旋涂(spin-on glas)

摻雜層旋涂

輔助化學品

邊膠清洗液

顯影液

去膠液

Futurrex所有光刻產品均無需加增粘劑(HMDS)