氦質(zhì)譜檢漏儀

故常用氦作示漏氣體。將這種氣體噴到接有氣體分析儀（調(diào)整到僅對(duì)氦氣反應(yīng)的工作狀態(tài)）的被檢容器上，若容器有漏孔，則分析儀即有所反應(yīng)，從而可知漏孔所在及漏氣量大小。專(zhuān)業(yè)用于電廠檢漏的氦質(zhì)譜檢漏儀。關(guān)鍵部件均為進(jìn)口，性能穩(wěn)定可靠。不僅靈敏度高。

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氦質(zhì)譜檢漏儀逆擴(kuò)散原理

被檢件充入高于大氣壓的探索氣氦，檢漏儀的檢漏口連接稱(chēng)之為吸槍的氣體。當(dāng)試件有漏時(shí)，泄漏的氦氣被吸槍吸入檢漏儀，而被檢測(cè)。吸槍在試件表面移動(dòng)，同時(shí)注視氦質(zhì)譜檢漏儀漏率指示的變化，一旦泄漏增加，吸槍所指位置即漏點(diǎn)所在。因此吸槍法也是能確定漏孔的檢漏方法。

氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏方法

電子元器件進(jìn)密性檢測(cè)時(shí)常用背壓法。檢漏前用專(zhuān)用加壓容器向被檢件壓入氦氣(由壓力和時(shí)間控制壓入的量)，然后取出被檢件，吹去表面吸附氦后放入專(zhuān)用檢漏罐中，再將檢漏罐聯(lián)接到檢漏儀的檢漏口上，對(duì)檢漏罐抽真空，實(shí)施檢漏。若器件有漏，則通過(guò)該漏孔壓人的氦氣又釋放出來(lái)進(jìn)入檢漏罐，終到達(dá)質(zhì)譜管。用這種方法測(cè)得的漏率也是總漏率

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氦較除氫以外的其他氣體通過(guò)同一漏孔的漏率就大，容易發(fā)現(xiàn)，靈敏度高。氦是惰性氣體，不與被檢件器壁起化學(xué)反應(yīng)，不會(huì)污染被檢件，使用安全。在氦兩側(cè)的是氫（質(zhì)荷比為2）和雙電荷原子碳（質(zhì)荷比為6），質(zhì)荷比都與氦相差較大。這樣，它們?cè)诜治銎髦械钠D(zhuǎn)半徑相差也大，容易分開(kāi)，定標(biāo)找氦峰時(shí)，不易受其他離子的干擾